CVD handy PECVD Yeni Model
Sistem a-Si:H, SiO2, Si3N4, DLC ve benzeri ince filmleri Plazma Destekli Kimyasal Buhar Biriktirme yöntemi ile büyütmek için kullanılmaktadır.
- En Düşük Basınç < 2x10-7 Torr
- Alttaş Boyutu 6" çapında
- Alttaş Isıtma Max. 500 oC
- Büyütme Yöntemi Kapasitif Eşleşmiş PE-CVD
- Güç Kaynağı RF, 13.56 MHz
- Yükleme Yukarıdan
- Kontrol Bilgisayar üzerinden tam otomasyon
Daha detaylı bilgi için, info@vaksis.com adresine e-posta gönderiniz.
